超高温热台H1000/H1200具备4K至1700℃的超宽范围精确控温能力。依据目标温度及应用特点，集成包括：液氦制冷、液氮制冷、热电制冷、电阻加热、红外加热、激光加热等在内的多种前沿温控解决方案，为复杂变温实验提供强大支持。

光学应用冷热台作为变温环境下研究光学性能的关键设备，广泛应用于材料科学、半导体物理、光电子器件、纳米技术、生物光子学、矿物等领域，精确控制样品温度并实时测试其光学特性（如显微图像、荧光、拉曼、折射率、发光效率等）。

本系列产品具备4K至1700℃的超宽范围精确控温能力。依据目标温度及应用特点，集成包括：液氦制冷、液氮制冷、热电制冷、电阻加热、红外加热、激光加热等在内的多种前沿温控解决方案，为复杂变温实验提供强大支持。

同时，提供多语言SDK（如Labview、C#等），赋能客户实现高效定制化集成。

开云手机在线官方网站H1200温度范围RT~1200℃；平面式载样台，反射光路；顶盖配置循环水保护。

超高温热台H1000/H1200特点：

• • 温度范围：RT~1200℃

• • 温度稳定性：±0.1℃

• • 支持反射

• • 高精度控温

• • 专业温控软件

• • 支持定制

超高温热台H1000/H1200参数：